三星电子时隔8年再于韩国新建研发中心,李在镕出席动工仪式 重返经营一线

导读今天关于三星电子时隔8年再于韩国新建研发中心,李在镕出席动工仪式、重返经营一线这方面的信息是受到的大家的关注度比较高,很多人也是...

今天关于三星电子时隔8年再于韩国新建研发中心,李在镕出席动工仪式、重返经营一线这方面的信息是受到的大家的关注度比较高,很多人也是想看看三星电子时隔8年再于韩国新建研发中心,李在镕出席动工仪式、重返经营一线具体的详情,那么小编今天也是特地在网上收集了一些关于这方面的信息内容来分享给大家,大家感兴趣的话可以接着看下面的文章。

韩联社8月19日消息,三星电子副会长李在镕19日先后访问公司位于京畿道器兴和华城的半导体厂,盘点半导体事务。这是李在镕在光复节获特赦重返经营一线后的第一个公开日程。

李在镕当天出席在京畿道器兴园区举行的下一代半导体研发(R&D)园区动工仪式。他表示,公司器兴半导体厂破土动工已过40年,今天在此再次开始新的挑战。没有对研发的大胆投资就不会有如今的三星半导体,让我们秉承“重视技术、先行投资”的传统,以前所未有的全新技术创造未来。

据韩国《亚洲日报》报道,该园区是三星电子自2014年之后时隔8年在国内新建研发中心。该研发园区总面积约9万平方米,将主管NAND闪存、晶圆代工、系统新片等新技术研发。三星电子计划到2028年对该园区投资约20万亿韩元(约合人民币1030亿元)。三星电子相关人士表示,若建成具备尖端设备的研发中心,有望缩短新一代产品研发时间,提升半导体质量。

免责声明:本文由用户上传,如有侵权请联系删除!